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品牌	其他品牌	產地類別	進口
應用領域	醫療衛生,生物產業,電子/電池,航空航天,綜合

UV納米壓印機

納米壓印技術是上世紀90年代Stephen Y Chou,針對傳統光刻受波長限制提出的類似于模板刻印的一種技術。它的原理是：將具有納米結構的模板通過一定壓力，壓入加熱的熔融的高分子薄膜內，待高分子材料冷卻，納米結構定型，移去模板，然后再通過等離子體刻蝕等傳統的微電子加工手段把結構轉移到基底上。過程如下圖所示：

由于熱壓印需要采用較高壓力，容易損壞模板，不利于模板多次使用，并且由于材料和襯底熱系數并不相同，容易造成納米結構缺陷，于是G.G.Willson 提出了紫外固化壓印。該設備主要原理是：使用低粘度，流動性好的聚合物滴到基板上，利用液體*的毛細現象，使光刻膠充滿模板，然后通過紫外光照射使其固化，然后脫模，刻蝕。過程如下圖所示

到目前為止壓印技術已經發展出來多種類型，典型的包括熱塑壓印技術、紫外固化壓印、微接觸納米壓印、激光輔助納米壓印和滾軸式納米壓印技術等。

為了滿足市場日益增長對納米壓印的需求，上海昊量推出了UV納米壓印機。

該設備是基于紫外固化的納米壓印機，可提供2英寸；4英寸和6英寸不等的壓印尺寸。分辨率可做到由于10nm，并且擁有99%產率。

該設備的*之處是已獲得的自動脫模技術。該設備可以通過軟件調節納米壓印腔體內外的壓力，是模板從襯底上自動脫模。并且可避免分離過程中造成基底和模板的損壞。

該產品擁有以下優勢：

l 分辨率優于10μm，產率優于99%

l 同時適用于軟模和剛性模板

l 自動脫模，防止模板和基板損壞

l 可壓印不同尺寸的模板和基片，方便靈活

l 可編程的PLC觸屏界面

l 對準選項

應用實例：

產品參數：

	AUV-200	AUV-400	AUV-600
Substrate size	2 inch standard	4 inch standard	6 inch standard
Imprint area	Same as wafer size
Imprint pressure	1 psi standard
UV exposure time	2-3 min at 95% intensity level

UV納米壓印機

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